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120T/H半导体清洗用超纯水设备

文章出处:合肥水处理设备工程公司文章作者:合肥水处理工程师发表时间:2018-11-29 14:34

  一、120T/H半导体清洗用超纯水设备概述

  半导体在常温下是介于导体和绝缘体之间的材料,半导体生产和清洗需要对水有一定要求,电阻率要在16兆欧以上。120T/H半导体清洗用超纯水设备采用先进的制水技术,可以有效去除原水中的各种杂质,出水水质可以达到18兆欧以上,完全满足行业用水需求。
 

超纯水设备
超纯水设备


  二、120T/H半导体清洗用超纯水设备制备工艺

  1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

  3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)
 

半导体清洗用超纯水设备
半导体清洗用超纯水设备


  三、120T/H半导体清洗用超纯水设备应用场合

  电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

  电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

  显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

  黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

  液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

  晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制。

  集成电路生产中高纯水清洗硅片。

  半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。
 

120T/H半导体清洗用超纯水设备
120T/H半导体清洗用超纯水设备


  以上是120T/H半导体清洗用超纯水设备的简单介绍。莱特莱德合肥水处理设备公司是一家专业从事水处理设备的高科技企业。